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2dsemiconductors kish-graphite?說明書

 更新時(shí)間:2022-07-26 點(diǎn)擊量:1107


2dsemiconductors kish-graphite說明書

基什石墨

Kish 石墨已在實(shí)驗(yàn)室使用熔融鐵碳化物冷卻工藝合成,以實(shí)現(xiàn)研究級(jí) Kish 石墨材料。通常 Kish 石墨是不銹鋼工藝的天然副產(chǎn)品,通常從冷卻的鐵表面收集小石墨片。這個(gè)過程的目的不是生產(chǎn)石墨,而是專注于生產(chǎn)含碳雜質(zhì)的鐵。因此,基什石墨的純度通常為 75%。 

我們開發(fā)了鐵箔冷卻工藝,通過半導(dǎo)體級(jí)甲烷和乙烷混合物將碳溶解到厚鐵箔中并仔細(xì)冷卻以產(chǎn)生高質(zhì)量的 kish 石墨片。這些晶體的尺寸從毫米到 5-6 毫米不等,具有高純度(99.99% 或更高)和結(jié)晶度(的 vdW 結(jié)構(gòu),與 HOPG 相比易于剝落)。 

實(shí)驗(yàn)室生長的 Kish 石墨的典型特征 

樣本量單晶尺寸范圍從 0.1 毫米到 3-5 毫米。每個(gè)訂單包含一個(gè)*裝滿的 2 毫升瓶,足以長期研究消費(fèi) 
特性

半金屬/狄拉克金屬
非常容易去角質(zhì)

剝落特性很容易
生產(chǎn)方式脫碳技術(shù)


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